真空多弧磁控溅射复合离子镀膜设备丨真空多弧离子镀膜机

    ＰＶＤ多弧离子镀原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子.由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。

    本公司拥有**完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和**的生产工艺。