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超纯氨气微量水分分析 
　　超高纯度气体中微量水分的分析是极具挑战性的，尤其对半导体产业而言，气体中只要有十亿分之几的水分就可造成硅片上的瑕疵[2]。所以半导体制造商要求气体供应商确保水分含量不能大于（1～10）×10-9。而且氨气为有毒、高腐蚀性气体，这就要求微量水分分析仪不仅应具有高灵敏度、准确度和**的响应速度，而且要能够经受腐

蚀性气体，现有的仪器很难满足所有这些要求。而采用光腔衰荡光谱对超纯氨中微量水分进行分析是少数能达到上述要求的一种基于激光的光谱技术。