半导体清洗用超纯水设备工艺流程
半导体清洗超纯水设备整套工艺流程相当严谨，所以这就需要每个工序点配合默契。原水进入半导体清洗用超纯水设备后首**入南方泵加压，加压后原水进入系统预处理装置，预处理过后通过反渗透水处理装置，此时的水可以作为纯水来使用，**后需经过过滤器进行深度过滤，使出水达到要求。
电子行业发生的变化给人们日常生活带来巨大影响，电子产品**不可缺少的配件半导体越来越受到人们关注。电子行业超纯水设备对电子元件主要的生产起着至关重要的辅助作用。电子行业超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级，采用双级反渗透之后出水标准超过国家半导体清洗用超纯水标准。设备出水水质**高可达18.2兆，废水的回收率可以达到80%到90%以上。
半导体清洗用超纯水设备的售后服务
1、负责所供设备的指导安装调试。
2、提供需方设备维护人员。
3、对所售设备提供一年保修（易损易耗件除外）、终生维修。
4、为用户建立计算机管理档案，定期回访。
5、设立顾客满意电话，随时接受用户咨询。
6、分布在各地的售后服务人员将即时解决用户使用中产生的问题。
